根據純度與用途分類，氫氟酸分為工業和電子級兩種：工業級的無水HF可用于氟烷烴、氟化鹽、含氟精化工等化學品的制備，其精餾、超純水吸收后純化，并經 0.2μm 以下超濾等工序后，可制得高純且超凈的電子級氫氟酸，技術難度較大。主要作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業，根據純度分為 4 個級別，與傳統工業級氫氟酸行業受限情況不同，近年來電子級HF行業發展受政策允許與鼓勵，逆勢而上、不斷加碼產能。

　　電子級氫氟酸主要用于去除氧化物，被運用于集成電路、太陽能光伏和液晶顯示屏等領域中進行芯片、硅片、玻璃基板的清洗和蝕刻，以及用于分析試劑和制備高純含氟化學品等。

　　高純HF價格為工業級氫氟酸的 2-3 倍，含量也是工業級氫氟酸的一半，另外一半是高純水。

　　HF是集成電路行業中的關鍵輔助材料之一，其純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能及可靠性都有著重要的影響。

　　在半導體制程中有 50 多個環節需要使用高純氫氟酸，約 70%用于清洗，30%用于蝕刻，半導體要求純度達99.999氫氟酸。

　　世界電子級氫氟酸需求集中在亞太、歐洲和北美地區，近年來世界市場規模及消費量穩定上漲。目前高純半導體級氫氟酸的生產技術和供給主要被 Stella（產量 9 萬噸）、大金、森田化學（年產 2 萬噸）等日企所掌握。三家日企控制著高純半導體級（UPSS 及以上）氫氟酸產能的近 90%，具備很強的技術優勢